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नैनो सिलिसाइड

एकीकृत इलेक्ट्रोड फिल्म और उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोधी कोटिंग के लिए मोलिब्डेनम सिलिसाइड नैनोकण

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शीर्ष शुद्धता औद्योगिक ग्रेड MoSi2-10μm मोलिब्डेनम सिलिसाइड नैनोकण

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उच्च तापमान एंटी-ऑक्सीडेशन कोटिंग के लिए नैनो ज़िरकोनियम सिलिसाइड

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सिरेमिक चीन उच्च शुद्धता ज़िरकोनियम सिलिसाइड नैनोकणों के लिए उपयोग किया जाता है

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सेमीकंडक्टर फिल्म और क्रूसिबल सामग्री के लिए आपूर्ति जिरकोनियम सिलिसाइड नैनोकणों का निर्माण

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TaSi2-100nm 500nm अल्ट्राफाइन टैंटलम डिसिलिसाइड नैनोपाउडर

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एंटीऑक्सीडेंट कोटिंग्स और फोटोवोल्टिक सामग्री के लिए बढ़िया सिरेमिक सामग्री नैनो HfSi2

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एंटीऑक्सीडेंट कोटिंग, प्रतिरोध तार कोटिंग के लिए 99.9% WSi2-10μm टंगस्टन सिलिसाइड नैनोकण

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सेमीकंडक्टर विद्युत ताप तत्व नैनो HfSi2 हेफ़नियम सिलिसाइड नैनोपाउडर

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माइक्रो और नैनो टैंटलम डिसिलिसाइड पाउडर सर्वोत्तम मूल्य

CAS संख्या।: 12039-79-1

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उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोधी कोटिंग के लिए HfSi2-5μm हेफ़नियम सिलिसाइड नैनोकण

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टंगस्टन सिलिसाइड नैनोकण उच्च शुद्धता

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